该晶圆生產设备厂设在华南东北部，主要生產8厘米半导体器件晶圆，平均化工废水做好消费量下跌约800吨。主要是因为生產的过程中运用广泛盐酸做好晶圆蚀刻，导至化工废水里面氟化物氧浓度超过200-300mg/L，远超我国做好产生标准单位（10mg/L下类）。 工业废水基本成分及来源地 生产废水大部分来于四个方面： 晶圆蚀刻工艺 ：含高溶液浓度氟化物（HF）、盐酸及一些血本属 化学上机械厂镜面抛光（CMP）废气 ：含納米级硅顆粒、无机络合剂 生产设备洗掉焦化废水 ：含异丙醇、氯离子等巧妙物 治疗加工制作工艺 过程 采用了"有机化学凝固+混凝土凝固+深度1滤出"三类处置系统性： 考试内容一级操作 ：污泥脱水氯化钙和氢氧化的钙，建立氟化钙沉淀物，氟化物除去率达85% 特殊清理 ：放入PAC（缩聚氯化铝）和PAM（聚乙烯酰胺），洗去固体态造成的污染源 三阶段加工 ：借助多媒质滤过器和过滤性炭过滤，喷水氟化物渗透压稳定可靠在8mg/L左右 关键因素专用设备比如：pH主动调控平台、斜管沉淀出的池、板框设备（废水烘干）。 结果是成果 建设项目作业五年期监测网的数据出现： 氟化物月均盐浓度：7.2mg/L（降到国内标准的） COD快速清理率：92% 污泥处理含水量率：≤65% 年回收凭借氟化钙副护肤品约150吨，进行教育综合凭借凭借